事業案内

 

商号:  集積回路技術工房/Integrated Circuit Technology Studio

         代表 西 村  清

所在地: 614-8364 京都府八幡市男山松里9-7

TEL/FAX: 075-200-1215

創立年月日: 2001年4月1日

商標:  ICTstudio

営業品目: 1.教育コンサルタント業務(半導体集積回路設計技術指導)
        2.IPプロバイダー業務(集積回路IPの開発、販売、並びに運用支援)

代表/経歴・実績:

     経歴

       工学博士。ローム株式会社にて1972年4月より2000年3月まで集積回路製品開発業務、
       強誘電体メモリの研究業務、並びに海外開発拠点の技術者教育業務に従事。その間、
       集積回路製品開発業務としてはオーディオ、VTR、モーター制御等の製品開発からASIC、
       マイコンの基本システム立ち上げ応用までを手がける。
       強誘電体メモリの研究業務としては強誘電体のヒステリシス特性モデル、並びに過渡応答
       モデルを開発。
       海外開発拠点の技術者教育業務としては集積回路設計関連7テーマそれぞれについて、
       各約4名のリーダインストラクターを教育。展開として各テーマにて数十人参加規模の教育
       セミナーを指導。
       2001年4月集積回路技術工房を創業。2004年4月大阪工業大学大学院非常勤講師兼任。

     発明実績

       国内特許登録86件 USA Patent 25件

     研究活動実績

       電子情報通信学会採録論文5本、技術雑誌等への執筆、技術講演多数。

 

発明リスト

国内特許

 
特許登録番号 名称 発明者 登録日
1 1189098
2 1316090
3 1316091
4 1316092
5 1316093
6 1347179
7 1405150
8 1405151
9 1408170
10 1421944
11 1421955
12 1502242
13 1502246
14 1502247
15 1502257
16 1502258
17 1511181
18 1514732
19 1520864
20 152086
21 1530007
22 1538433
23 1538435
24 1538436
25 1586312
26 1605448
27 1607167
28 1617892
29 1624519
30 1631357
31 1636794
32 1645525
33 1650673
34 1650675
35 1684221
36 1767724
37 1794659
38 1810969
39 1826214
40 1834033
41 1836275
42 1836277
43 1850803
44 1865849
45 1882425
46 1896868
47 1947716
48 1947717
49 1955869
50 1956764
51 1993297
52 2061789
53 2076057
54 2103225
55 2108049
56 2702707
57 2824513
58 2918085

59 3026308

60 3494930
61 3518936
62 3518950
63 3518951
64 3518952
65 3570692
66 3585674
67 3599291
68 3613546

69 3635716
70 3642559

71 3644664

72 3662074
73 3698386
74 3703555
75 3710507
76 3751173
77 3758054
78 3767702

79 3767703

80 3767705
81 3770282
82 3919312
83 3933736
84 3966593
85 4255520

86 4371387
ホールIC
モータの駆動制御装置
モータの駆動制御装置
モータの速度制御装置
モータの速度制御装置
モータの正逆転駆動回路(分割出願)
ホールIC
磁気カップラ
ホール素用オフセット子電圧補正装置
サンプルホールド装置
サンプルホード回路ル
周波数ー電圧変換装置
モータの駆動信号発生装置
モータの速度制御装置
ホール素子
ホール素子
呼出発生回路音
チャイム音発生回路
エクスクルーシブOR回路
単安定マルチバイブレータ
モータの駆動制御装置
ホール素子
ホール素子
ホール素子
直流モータの駆動回路
周波数ー電圧変換装置
ホール素子
パルス発生回路
ホール素子
ミューティング信号発生回路
ウィインドコンパレータ
移相装置
タイマ装置
容量性負荷駆動回路
半導体集積回路装置
パルス発生回路
VTRの再生モード判別回路
モータの駆動制御装置
半導体装置の製造方法
マイクロコンピータ
半導体装置の製造方法
C-MOSトランジスタ
マイクロフロ゚セッサ路割付方法回
マイクロコンピータ
分周期の同期回路
集積回路の3値入力回路
ブラシレスモータ駆動方式
ブラシレスモータ駆動方式
ホームコントロールシステム
半導体装置の保護回路
集積回路の出力回路
マイクロコンピータ
周波数比較回路
マイクロコンピータ
波形変換回路
1チップマイコン用ターゲットチップの製造方法
ホームコントロールシステホームコントロールシステムム
アプリケーションソフト開発支援装置及びそれに用いるエバリュエーション半導体チップ
不揮発性記憶装置および不揮発性記憶装置の製造方法
信号処理セルおよび信号処理装置
プログラム可能な機能装置
機能複製装置および機能複製方法
機能複製装置および機能複製方法
機能複製装置および機能複製方法
不揮発性メモリ
半導体記憶装置
不揮発性メモリ
データ処理システム、データ処理装置およびデータ処理方法
不揮発性メモリ
信号保持回路、半導体装置、ゲートアレイおよびICカード
強誘電体を用いた順序回路およびこれを用いた半導体装置
半導体記憶装置の試験方法
データ記憶装置
携帯情報装置及びその充電装置
不揮発性メモリ
データ保持装置
半導体記憶装置
強誘電体記憶装置および強誘電体コンデンサを用いた記憶方法
強誘電体記憶装置および強誘電体コンデンサを用いた記憶方法
強誘電体記憶装置
強誘電体記憶装置
強誘電体記憶装置
強誘電体回路コンデンサを備えた半導体装置
強誘電体回路シミュレーション装置
強誘電体記憶装置、記憶内容の読み出し方法、スタンバイ方法
制御駆動回路および制御駆動方法
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村
西村
西村
西村
西村、その他
西村、その他
西村
西村、その他
西村
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村
西村
西村、その他
西村、その他
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村、その他
西村
西村
西村、その他
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村
西村

西村、その他

西村
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村、その他
西村
西村、その他
西村

西村、その他
西村

西村

西村、その他
西村
西村
西村、その他
西村
西村
西村

西村

西村
西村
西村
西村
西村
西村

西村
S59/02/13
S61/05/15
S61/05/15
S61/05/15
S61/05/15
S61/11/13
S62/10/09
S62/10/09
S62/10/27
S63/01/29
S63/01/29
H01/06/28
H01/06/28
H01/06/28
H01/06/28
H01/06/28
H01/08/09
H01/08/24
H01/09/29
H01/09/29
H01/11/15
H02/01/16
H02/01/16
H02/01/16
H02/10/31
H03/05/31
H03/06/13
H03/09/12
H03/11/18
H03/12/26
H04/01/31
H04/02/28
H04/03/30
H04/03/30
H04/07/31
H05/06/11
H05/10/14
H05/12/27
H06/02/28
H06/03/29
H06/04/11
H06/04/11
H06/06/21
H06/08/26
H06/11/10
H07/01/23
H07/07/10
H07/07/10
H07/07/28
H07/08/10
H07/11/22
H08/06/10
H08/07/25
H08/10/22
H08/11/06
H09/10/03
H10/09/11
H11/04/23

H12/01/28

H15/11/21
H16/02/06
H16/02/06
H16/02/06
H16/02/06
H16/07/02
H16/08/13
H16/09/24
H17/02/10

H17/01/14
H17/02/04

H17/02/10

H17/04/01
H17/07/15
H17/07/29
H17/08/19
H17/12/16
H18/01/13
H18/02/10

H18/02/10

H18/02/10
H18/02/17
H19/02/23
H19/03/30
H19/06/08
H21/02/06

H21/09/11

※ 出願人はローム株式会社。

United States Patent

Patent Number Title Inventors Date of Patent
87 US5400435
88 US5541871

89 US5541873
90 US5592409
91 US5619714

92 US5633821
93 US5721159

94 US5764561

95 US5844831

96 US5896042

97 US5901077

98 US5928361
99 US5942877

100 US5953224


101 US5953245

102 US6016266

103 US6069816


104 US6124728

105 US6144578

106 US6145115

107 US6233169

108 US6246602
109 US6320337

110 US6327558



111 US6631479
High Speed Fuzzy Control
Nonvolatile Ferroelectric Semiconductor Memory
Nonvolatile Memory
Nonvolatile Memory
Microcomputer having Instruction Decoder with A Fixed Area and A Rewritable Area
Nonvolatile Memory Device
Method for Manufacturing and Tesing memory A Devices
Ferroelectric Memory Devices and Method of Using Ferroelectric Capacitors
Ferroelectric Memory Devices and Method of Using Ferroelectric Capacitors
Semiconductor Memory Device Conparising Ferroelectric Capacitors
Programmable Functional Device Having Ferroelectric Material
Data Security Device and Method Thereof
Portable Information Device and Charger Therefor
Ferroelectric Memory Devices, A Method for Read out Stored Data andA Method for Standing-by
Semiconductor Memory Device and Method of Controlling Imprint Condition Thereof
Semiconductor Device with A Derroelectric Capacitor
High-speed Responding Data Storing Device for Maintaining Stored Data without Power Supply
Programmable Functional Device Having Ferroelectric Material
Ferroelectric Memory Device and A method for Manufacturing Thereof
Device for duplicating functions and a method for duplicating functions
Signal Storing Circuit Semiconductor Device, Gate Array and IC-card
Ferroelectric Storage Device
Control Drive Circuit and Control Drive Method
Apparatus for Simulating Electrical Characteristics of A Circuit Including A Ferroelectric Device and A Method for Simulating Electrical Characteristics of A Circuit Including A Ferroelectric Device
Data Processing System, Data Processor and Data Processing Method
Nishimura
Nishimura, et al

Nishimura, et al
Nishimura, et al
Nishimura

Nishimura, et al
Nishimura, et al

Nishimura

Nishimura

Nishimura

Nishimura

Nishimura
Nishimura

Nishimura


Nishimura

Nishimura

Nishimura


Nishimura

Nishimura

Nishimura, et al

Nishimura

Nishimura
Nishimura

Nishimura



Nishimura
1995.03.21
1996.07.30

1996.07.30
1997.01.07
1997.04.08

1997.05.27
1998.02.24

1998.06.09

1998.12.01

1999.05.04

1999.04.20

1999.07.27
1999.08.24

1999.08.31


1999.09.14

2000.01.18

2000.05.30


2000.09.26

2000.11.07

2000.11.07

2001.05.15

2001.06.12
2001.11.20

2001.12.04



2003.10.07
 

* Assignee:Rohm Co. Ltd., Kyoto, Japan

 

論文・講演・著作リスト

学会論文誌採録論文

(1) 西村清,他:”強誘電体ヒステリシス特性モデルの開発とその応用”電子情報通信学会論文誌C-U, VOL.J80-CII NO.7 '97.7. pp.229-235
K. Nishimura, et al: "A Ferroelectric Hysteresis Loop Model" Electronics and Communications in Japan Part2: Electronics (Scripita Techinica, Inc.) Vol.80 No.10 October 1997 pp.1-8

(2) 西村清,他:”強誘電体過渡応答特性モデルの開発とその応用”電子情報通信学会論文誌C-U, VOL.J81-CII NO.2 '98.2. pp.251-258
K. Nishimura, et al: "Ferroelectric Switching Transient Model" Electronics and Communications in Japan Part2: Electronics (Scripita Techinica, Inc.) Vol.81 No.7 July 1998 pp.1-9

(3) 西村清,他:”強誘電体メモリの読み出し応答解析”電子情報通信学会論文誌C-U, VOL.J81-CII NO.6 '98.6. pp.534-541
K. Nishimura, et al: "Ferroelectric Memory Transient Analysis on Read Mode" Electronics and Communications in Japan Part2: Electronics (Scripita Techinica, Inc.) Vol.82 No.2 February 1999 pp.39-477

(4) 西村清:”強誘電体コンデンサのインプリント特性モデルの開発とその不具合評価方法”電子情報通信学会論文誌C-U, VOL.J81-CII NO.8 '98.11. pp.857-864
K. Nishimura: "Ferroelectric Hysteresis Loop Model of Imprint Properties" Electronics and Communications in Japan Part2: Electronics (Scripita Techinica, Inc.) Vol.82 No.10 October 1999 pp.27-34

(5). K. Nishimura, "Polarization Fatigue Modeling of Ferroelectric Capacitors," IEICE, Trans., Electron., Vol.E85-C, No.6, Jun. 2002, pp.1334-1341

 

寄稿論文・講演論文・著作

(1) 西村清:”東洋電具製作所のみるセミカスタム/カスタムLSIの開発と設計例”,日本技術情報センター:各社にみるセミカスタム/カスタムLSIの新開発手法と設計例,1981.3.21, pp.1-11 / 1981.5.28, pp1-14

(2) 西村清:”急成長するゲートアレイ市場”,日刊工業新聞,1984.7.10,32面

(3) 西村清:”ASIC/USIC1チップマイコン「RAMICS」技術概説”,Computer Design,電波新聞社,October, 1987, pp.34-41

(4) 江田努,西村清:”ロームASICマイコンの開発手法”,電工技術報,Vol.36, No.5, pp.122-127 (昭63)

(5) 西村清:”小規模ワンチップマイコン設計のTATを短縮するS.RAMICS概説”,Computer Design,電波新聞社,May, 1989, pp.95-100

(6) 西村清,江田努:”周辺機能強化型のASマイコンとセルベースASICアプローチが台頭する”,Computer Design,電波新聞社,May, 1992

(7) 西村清:”強誘電体メモリ技術のポータブルシステムへのインパクト”,(社)日本工業技術振興協会 第28回強誘電体研究委員会「ポータブルシステム技術展望」平成7年次報告, V-28-121, pp.419-429, 1996.1.25

(8) 西村清:”強誘電体メモリ評価技術”,サイエンスフォーラム「'97強誘電体薄膜メモリ技術フォーラム」, 1997.1.23

(9) 西村清:”強誘電体メモリの理想デバイス化への回路技術アプローチ”,(社)日本工業技術振興協会 第34回強誘電体研究委員会「強誘電体薄膜メモリーとその材料の開発動向」平成8年次報告,Y-34-150, pp.279-288, 1997.1.24

(10) 西村清:”ICカード用LSIの技術展望”,Electronic Journal第12回Technical Symposium「ICカードと搭載LSI徹底検証」,講演予稿集, pp.137-146, 1998.11.10

(11) 西村清:”低電圧設計技術とそのメモリ”,サイエンスフォーラム,高須その他編集「FRAM ICカード技術」, pp59-75, 1999.4.30

(12) 西村清:”System LSI Design Methodology”,システムLSI技術学院 特別講義「設計手法について」第1回ローム, 1999.6.5

(13) 西村清:”将来のIPのあるべき姿”,システムLSI技術学院 特別講義「設計手法について」第5回パネル討論(IPとその利用技術と合同開催),1999.8.23

(15) 西村清:”強誘電体メモリ回路設計技術”,システムLSI技術学院 VLSI分野:先端VLSI設計講義「強誘電体技術とその応用」第2回, 1999.6.5

(16) 西村清:”強誘電体を利用した不揮発性メモリに関する研究”,大阪工業大学大学院, 2002.6.

(17) 西村清:”MOSアナログ集積回路設計技術教本”,集積回路技術工房, 2002.12.5

(18) 西村清:”MOSデジタル集積回路設計技術教本”,集積回路技術工房, 2002.12.5

(19) 西村清:”MOS集積回路素子設計技術教本”,集積回路技術工房, 2003.3.15

(20) 西村清:”Bipolar集積回路設計技術教本”,集積回路技術工房, 2003.12.5

(21) 西村清:”Bipolar集積回路素子設計技術教本”,集積回路技術工房, 2004.10.15

(22) 西村清:”MOS集積回路設計技術教本”,大阪工業大学大学院, 2005.2.55